Journée thématique: le 26 mai 2009

De la RF au millimétrique sur Silicium

Organisateurs : Philippe Benech, Jean-Marc Duchamp et Jean-Michel Fournier

L’objectif de cette journée thématique est de faire le point sur le potentiel des technologies silicium pour l’intégration des systèmes au regard de l’évolution des besoins dans le domaine des applications RF et millimétriques. Ce domaine en plein essor profite d’une part de la montée en fréquence des technologies et d’autre part de l'utilisation de nouveaux matériaux et composants qui permettent une intégration plus poussée des systèmes.
Les présentations couvriront à la fois un aspect conception des circuits et des systèmes et un aspect technologique en prenant en compte les nouveaux besoins en termes de caractérisation et de modélisation des composants. Ces deux aspects sont nécessaires pour répondre à l’évolution en fréquence vers le domaine du millimétrique.  

Cette journée est  organisée par l’IMEP-LAHC en partenariat avec le CEA-LETI et la société ST Microelectronics. La journée aura lieu à la Maison des Micro et NanoTechnologies (MMNT) située au pôle d’Innovation MINATEC, 3 parvis Louis Neel à Grenoble. Des informations complémentaires pour y accéder sont disponibles sur le site de MINATEC (www.minatec.com) Le programme de cette journée est accessible ICI

Les frais d’inscription de 100 € (120 € après le 15 avril 2009) incluent :

• La participation à la journée thématique
• Le repas de midi et les pauses café
• Un recueil des résumés
• Un CD contenant les présentations des différents intervenants ( envoyé quelques  jours après la journée à tous les inscrits).

Les inscriptions se font en ligne ICI